Rozdíly

Zde můžete vidět rozdíly mezi vybranou verzí a aktuální verzí dané stránky.

--- courses:a4m34isc:vypracovaneotazky [2015/06/08 19:27]
jirkamat [50. Co je syntéza v digitálním návrhu IO? Co je vstupem a co výstupem?]
+++ courses:a4m34isc:vypracovaneotazky [2025/01/03 18:29] (aktuální)
@@ Řádek 71: / Řádek 71: @@
 ==== 10. Nakreslete řez tranzistorem PMOS s jámou N i s kontaktem na jámu, nakreslete výstupní charakteristiky, vyznačte lineární a saturační oblast. ====
 {{:courses:a4m34isc:mosfet_p_struktura.jpg|}}{{:courses:a4m34isc:struktura_vysvetlivky.jpg|}}
-{{:courses:a4m34isc:outp_har.png|}}
+{{:courses:a4m34isc:outp_har.png?500|}}
 výstupní charakteristiky PMOS jsou analogické k NMOS, jen mají záporné hodnoty.
@@ Řádek 288: / Řádek 288: @@
 ==== 53. Charakterizujte Plánování rozložení čipu (Floorplanning). ====
+Cílem je umístit jednotlivé bloky a standardní buňky tak, aby propojovací
+nástroj rychle konvergoval.
 Jak se vypořádat s Velikostí čipu, Umístěním IO, Rozvodem hodinového signálu, Rozvodem VDD/GND
@@ Řádek 371: / Řádek 373: @@
 ==== 77. Nakreslete layout dvoustopého hradla NOR v CMOS technologii. ====
+ http://upload.wikimedia.org/wikipedia/commons/a/aa/NOR_gate_layout.png
 ==== 78. Jak se postupuje při výrobě masek pro optickou litografii? ====
 Masky pro optickou litografii mívají 8 vrstev, které se tvoří postupně:

courses/a4m34isc/vypracovaneotazky.1433784440.txt.gz · Poslední úprava: 2025/01/03 18:24 (upraveno mimo DokuWiki)

Nahoru